開發生態
Inversion Semiconductor 開發粒子加速器 X 光微影，稱可用更短波長超越 ASML EUV
DigiTimes單一來源
尚未逐項核實
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據 DigiTimes 報導，Inversion Semiconductor 正在開發粒子加速器 X 光微影平台，宣稱可比現行極紫外光（EUV）系統提供更短波長、更高吞吐量與更高晶片密度，目標是開闢不同於 ASML EUV 架構的先進製程路徑。目前消息僅來自單一來源，尚無其他佐證。
讀原始報導背景
極紫外光微影（EUV）是一種使用極紫外光波長的半導體微影技術。ASML 是全球最大的半導體曝光設備銷售商，在 16 個國家設有超過 60 個據點。