晶片與算力
ASML 據報暫扣 2029、2030 年 EUV 訂單並首度調價，供給緊縮加劇
DigiTimes單一來源
核實資料不足
目前依單一來源整理，這是來源數量描述，不是對消息真假的判定。
本次未取得足夠原文證據
據 DigiTimes 報導，EUV 光刻機唯一供應商 ASML 已由接單轉為分配訂單，並暫扣 2029 至 2030 年的訂單。同時，ASML 首度確認 EUV 設備調價，顯示 EUV 供給緊縮加劇。此為單一來源報導，且原文需付費訂閱，目前僅取得開頭段落，調價幅度、受影響的訂單數量、客戶分配方式等細節均無法從現有材料確認，官方是否已正式公告也未見佐證。若消息屬實，EUV 是先進製程晶片的關鍵設備，其供給緊縮可能影響 AI 晶片的產能與成本。
讀原始報導背景
EUV（極紫外光）微影是半導體業用來製造積體電路的一種光刻技術。根據一份 ASML EUV 供應鏈地圖，EUV 掃描機的組裝涉及多家供應商，例如 Zeiss、TRUMPF、Cymer 與 VDL 等。