西門子 Calibre 整合 NVIDIA cuLitho，宣稱全晶片光學鄰近修正運算提速最高 12 倍

據產業媒體報導，西門子宣布與 NVIDIA 展開合作進展，將 NVIDIA cuLitho 運算函式庫整合至 Siemens Calibre 製造軟體中。西門子宣稱，該整合能讓全晶片光學鄰近效應修正（OPC）工作負載速度提升最高達 12 倍，目標是讓全晶片規模的高階光罩最佳化具備實用性。 計算微影結合電磁物理、光化學與計算幾何演算法，用以模擬極紫外光繞射並修正光罩幾何形狀。在邁向高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）製程時，反向微影技術（ILT）需要從目標晶圓圖案反向推算非傳統直線的複雜曲線形狀，運算資源需求劇增。西門子指出，除了全晶片 OPC 的加速表現外，特定工作負載的模擬速度提升可達 10 倍至 17 倍，有助於將原本需耗時數週的光罩修正流程壓縮至數天，並減少伺服器基礎設施佔地與能耗。 報導同時提醒，這些數據僅代表特定計算任務的測量成果，官方與第三方尚未證實是否能在完整晶片製造流程中取得同等加速效果，亦無法保證在各家晶圓製造商的不同配置下皆有一致表現；實際導入時仍須綜合考量 GPU 硬體、軟體整合與流程驗證的整體建置成本。