跳到主要內容
2026-10-17 日報
研究與評測

SK 海力士發表 3D FeNAND 記憶體內運算架構:模擬能效提升最高 5,000 倍、處理量增 20 倍

科技新報 AI單一來源
尚未逐項核實

目前依單一來源整理,這是來源數量描述,不是對消息真假的判定。

據報導,SK 海力士(SK hynix)於 IEEE 論文公布最新研究,展示利用鐵電三維 NAND(3D FeNAND)實現類比記憶體內運算(A-CiM),直接在記憶體中完成乘積累加(MAC)運算,以減少資料於記憶體與處理器間搬移的延遲與能耗。與傳統 3D NAND 常見的電荷捕捉氮化物(CTN)結構不同,3D FeNAND 透過鐵電材料的極化狀態控制電流,單一儲存單元可呈現多種電流狀態來表達神經網路權重。該架構在晶胞層面以調整程式化脈衝次數區分電流;在位元線層面降低字線電阻並導入空氣間隙以減少寄生電容;在頁面層面則最佳化資料配置順序並導入頁內管線化(IPP)。模擬結果顯示,在晶片尺寸受限條件下,該設計相較傳統二維非揮發性記憶體陣列,處理量最高提升 20 倍,能源效率最高提升 5,000 倍。
讀原始報導

背景

快閃記憶體是一種可透過電氣抹除與重複程式化的非揮發性電腦儲存媒介,主要分為 NOR 與 NAND 兩種類型。鐵電快閃記憶體(FeNAND)的構想最早於 2000 至 2010 年代出現,早期原型採用 PZT 或 SBT 等鈣鈦礦材料,後續轉向使用二氧化鉿(HfO2)才促成其 3D 整合架構的發展。

來源

本期分類