美報告指中國將取得 343 台 DUVi 設備，可用於生產 7 奈米與 HBM，籲全面禁售

總部位於華盛頓的研究機構科技與國家治理能力中心（Centre for Technology & Statecraft）發布報告指出，截至 2026 年初，中國晶圓廠預計將取得 343 台浸潤式深紫外線（DUVi）微影系統。 報告估算，其中約 270 台為荷蘭艾司摩爾（ASML）的 Twinscan NXT:1980i 系統，單在 2024 至 2025 年間，中國晶圓廠購買該型號的花費即超過 130 億美元。儘管 DUVi 技術不及極紫外光（EUV），但經調整後仍可用於製造 7 奈米邏輯晶片，以及華為昇騰等 AI 處理器所需的高階記憶體（HBM）。 目前荷蘭當局對 NXT:2000i 及以上型號實施嚴格出口許可制，NXT:1980i 則採逐案審查。該報告作者包含前美國出口管制官員，認為現行規範存在重大漏洞，建議全面禁止向中國出口 DUVi 設備並限制零件與維修服務，呼籲美國與荷蘭協調，或單方面擴大對採用美國技術的外國製造設備實施出口管制。